单晶炉。设备功能:熔融半导体材料,拉单晶,为后续半导体器件制造,提供单晶体的半导体晶坯。
2.
气相外延炉。设备功能:为气相外延生长提供特定的工艺环境,实现在单晶上,生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体,为单晶沉底实现功能化做基础准备。气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺,其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续,而且与衬底的晶向保持对应的关系。
3.
分子束外延系统。设备功能:分子束外延系统,提供在沉底表面按特定生长薄膜的工艺
匿名回答于2022-07-21 04:30:55
半导体外延设备是半导体薄膜工艺设备中最高端、最具技术含量的一类设备，目前国产设备大多只能满足实验室科研需求，而产业化应用需要采用进口设备，这类设备大多被美国、德国、日本等国家垄断，尖端设备对我国实行严格的封锁禁运；基于本项目领军技术人员的二十多年的技术积累，开发多源大尺寸分子束外延MBE设备，突破国外技术垄断和封锁。
多源大尺寸分子束外延MBE设备，是半导体材料制备核心关键设备，国家重大战略急需（如第三代半导体），国外已对中国禁运。
匿名回答于2022-07-21 05:23:55
