在硅等基体材料上涂覆光致抗蚀剂，然后用极限分辨率极高的能量束来通过掩模对光致抗蚀剂层进行曝光。 经显影后，在光致抗蚀剂层上获得与掩模图形相同的及微细的几何图形，在利用刻蚀等方法，在工件材料上制造出微型结构。
在硅等基体材料上涂覆光致抗蚀剂，然后用极限分辨率极高的能量束来通过掩模对光致抗蚀剂层进行曝光。经显影后，在光致抗蚀剂层上获得与掩模图形相同的及微细的几何图形，在利用刻蚀等方法，在工件材料上制造出微型结构。
匿名回答于2023-09-17 19:16:53
