驻波效应对深紫外光刻胶的影响更为显著，因为很多硅片表面(例如氧化层、氮化硅和多晶硅)在较短的深紫外波长反射更加厉害。曝光后，光刻胶侧面是由过曝光和欠曝光而形成条痕。
驻波本质上降低了光刻胶成像的分辨率。驻波效应破坏了光刻胶图形侧壁的垂直性，也导致了光刻胶线宽测量的不稳定。
匿名回答于2023-09-17 19:22:08
