光刻气体是什么？

光刻机中的气体主要用于保护光刻物料和减少光刻过程中产生的残留物。常见的光刻气体包括氮气、氧气、氢气、氩气等。氮气和氧气主要用于防止光刻物料氧化或者产生气泡，氢气可以减少光刻过程中的残留物，氩气则用于稀释和冷却。不同的气体可以根据具体的光刻工艺和要求进行选择和组合。

匿名回答于2023-09-17 19:16:12

光刻气是光刻机产生深紫外激光的光源

气体激光器是利气体作为增益介质的激光器，激光混合气中组分气的纯度直接影响激光的性能。光刻气等电子气体作为半导体制造过程中重要耗材，芯片厂商通常会采用ASML推荐认证过的产品和服务，整个认证需要经历多个环节，历时比较久。

匿名回答于2023-09-13 07:42:04