光刻是一种半导体制造中常用的微影技术。
光刻是将光通过掩膜的投影，使其照射到光阻涂覆的硅片上，通过化学和物理的作用，将图案转移至硅片表面的工艺。
光刻在半导体制造中起到了非常关键的作用，它可以实现微米、亚微米乃至纳米级别的精密工艺，用于制作芯片上的电路、晶体管等微细结构。
光刻技术的发展和进步，直接影响着半导体行业的进步和晶体管的集成度提升。
随着科技的不断进步，光刻技术也在不断创新和发展，逐渐实现了更高分辨率、更高精度和更大尺寸的制程要求。
匿名回答于2023-09-17 19:15:15
光刻是一种微电子制造工艺，用于在半导体材料表面上建立或修正非常小的模式和结构。其基本过程是：使用光刻胶（photoresist）涂覆待加工的硅片表面，在光照下形成可溶解性变化后，以显影、清洗等步骤将所需图案转移到硅片上。
简单来说，就是利用光线对特定物质进行分解或化学反应并提取出所需要的图案/形状。它通常与其他微电子生产技术如薄膜沉积、离子注入等相配合使用，并为许多现代科技产品如计算机芯片、智能手机处理器和传感器等重要元件的制造提供了关键支持。
需要注意到光刻不仅仅局限于微电子领域，在几何测量、无损检测等行业亦有广泛应用。
匿名回答于2023-09-16 06:40:12
